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正性光刻胶
正性光刻胶
发布日期:2026.09.22
正性光刻胶,用于AMOLED/LCD/microled基板LTPS array制作的抗刻蚀光刻胶,满足基于i-线,g-线、g-h-i线的光刻制程工艺,可实现线≤1.2μm,孔≤1.5μm分辨率。
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